Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
The effect of the oxygen ratio control of DC reactive magnetron sputtering on as-deposited non stoichiometric NiO thin films
XX
BSO - Titre
The effect of the oxygen ratio control of DC reactive magnetron sputtering on as-deposited non stoichiometric NiO thin films
XX
DOI
DOI
10.1016/j.apsusc.2017.05.095
XX
DOAI
DOAI
10.1016/j.apsusc.2017.05.095
XX
Identifiant WoS
WOS:000404816900093
XX
Accès ouvert
OA - Non
XX
Source - Accès ouvert
OA - Non
XX
Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
Elsevier
XX
Source
APPLIED SURFACE SCIENCE
XX
ISSN
0169-4332
XX
Type de document
Article
XX
Notoriété
5 - Exceptionnelle
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INC - Institut de chimie
XX
uid:/FGC98D51
12/10/2021 14:52:46 (latest)
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